PLASMA CLEANERCharakterystyka plazmy

Plazmą określamy wysokoenergetyczny stan gazu obojętnego takiego jak tlen, argon, azot czy wodór. W plazmie atomy gazu są zjonizowane i wzbudzone do wyższego stanu energetycznego.

Rozszczepienie na jony i elektrony wymaga dostarczenia energii, a do jej aktywacji można wykorzystać napięcie stałe lub zmienne. W trakcie relaksacji, czyli przechodzenia do stanu niewzbudzonego (stanu o niższej energii), emitowana jest energia w postaci fotonu. Rezultatem tego jest emitowanie charakterystycznej poświaty, przy czym kolor plazmy jest inny dla różnych gazów (np. tlen emituje poświatę koloru niebieskiego).

Plazma wykorzystywana jest w wielu technikach modyfikacji powierzchni. Techniki plazmowe pozwalają na dokładne czyszczenie powierzchni z zabrudzeń, nakładanie cienkich powłok czy wytrawianie.

Zastosowanie plazmy do oczyszczania

Czasami na powierzchni obiektu przeznaczonego do obserwacji mikroskopowych pojawiają się ciała obce. Jest to zjawisko niepożądane, ponieważ może negatywnie wpłynąć na powstawanie obrazu. Jednocześnie oczyszczanie skontaminowanej powierzchni próbki nie może wpływać na jej strukturę czy skład chemiczny. W tym celu wykorzystywane są różne metody fizyczne, mechaniczne lub termiczne.

Plazma jest skuteczną fizykochemiczną metodą czyszczenia próbek. Oczyszczanie za pomocą plazmy dodatkowo zmniejsza prawdopodobieństwo zanieczyszczenia próbek podczas obserwacji. Metoda ta wykorzystuje zjawiska powierzchniowe. Polega na rozrywaniu większości wiązań organicznych, stąd możliwość skutecznego usuwania zanieczyszczeń wielkocząsteczkowych. Czyszczenie z zanieczyszczeń o niższej masie cząsteczkowej może odbywać się za pomocą rodników tlenu. Usunięte zanieczyszczenia są odprowadzane z komory. Ten wysokoenergetyczny i precyzyjny proces działa skutecznie, szybko i z bardzo dużą dokładnością.

Uchwyty Fischione:

uchwyt plasma cleaner fischioneuchwyt plasma cleaner fischioneuchwyt plasma cleaner fischione uchwyt plasma cleaner fischione

Budowa Plasma Cleaner

Plasma cleaner jest urządzeniem wykorzystywanym przy przygotowaniu próbki do obserwacji w mikroskopii elektronowej, a dokładnie w dekontaminacji badanego materiału. Proces czyszczenia odbywa się w próżni. Jest całkowicie zautomatyzowany i niezwykle szybki (trwa około 2 minut). Powierzchnia jest czyszczona fizycznie poprzez bombardowanie jonami, a także, zależnie od rodzaju rozpylanego gazu, przez reakcje chemiczne. Zanieczyszczenia są przetwarzane do fazy gazowej i odsysane.

Urządzenie to składa się z:

  • zespołu zasilania (generator wysokiego napięcia, przyłącze gazu chłodzącego i procesowego, elementy pozwalające na sterowanie procesem)
  • przewodów doprowadzające gaz i prąd;
  • generatora plazmy (elektroda zewnętrzna, wewnętrzna oraz izolator)

Utrzymanie wysokiej rozdzielczości staje się bardziej zależne od utrzymania niskiego poziomu zanieczyszczenia w komorze mikroskopu. Proces plazmowy pozwala szybko i łatwo wyeliminować gromadzenie się zanieczyszczeń węglowodorowych oraz czyszczenie próbek jednocześnie. Proces oczyszczania in-situ jest delikatnym procesem chemicznym, który zrewolucjonizował oczyszczanie zanieczyszczeń węglowodorów w komorach próżniowych.

Specjalizujemy się w dziedzinie mikroskopii elektronowej oraz rozwiązaniach dedykowanych do preparatyki próbek mikroskopowych. Skontaktuj się z naszymi specjalistami, w celu doboru optymalnego rozwiązania:

PIK INSTRUMENTS 

tel: +48 22 726 74 96

e-mail: kontakt@pik-instruments.pl

ul. Gen. L. Okulickiego 5F

05-500 Piaseczno, Polska

pon-pt: 08:00 – 16:00